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英特尔:2017年,7nm处理器芯片登场

英特尔:2017年,7nm处理器芯片登场

在今年的旧金山IDF会议期间,英特尔谈论最多的是Broadwell和Skylake处理器,这两代都是14nm工艺的,再往后就是10nm以及7nm工艺了,预计分别在2015年、2017年发布相应的芯片产品。

目前,这两种工艺还在研究和探索中,同时还需要更高级的制造设备,EUV(极紫外光光刻设备)就是关键之一。不过EUV现在还不成熟,英特尔仍表示就算没有EUV设备,他们也懂得如何用10nm、7nm工艺制造未来的芯片。

英特尔:2017年,7nm处理器芯片登场

英特尔理事Mark Bohr在回答工艺相关的问题时表示,他的日常工作之一就是研究在没有EUV光刻的情况下如何制造7nm芯片。对于EUV光刻这种核心设备,乐观的看法是10年内也不一定能升级,而英特尔在10nm节点不会使用EUV工艺,7nm节点也不一定会,不过这时候还是有点希望的。

Bohr表示他对EUV工艺很感兴趣,它可以帮助厂商提高产能,而且可能简化工艺,不幸的是EUV工艺还没有准备好,生产能力及可靠性都没有达标。

至于如何在没有EUV工艺的情况下制造10nm及7nm芯片,英特尔就没有透露太多了,不过在14nm工艺上,Intel已使用三重曝光(triple patterning)工艺。

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